Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/10316/32479
Title: Deposition of AlNx thin films on polymers for the development of biosensors
Authors: Rodrigues, Miguel 
Orientador: Fonseca, José Carlos Magalhães Duque da
Carvalho, Albano Augusto Cavaleiro Rodrigues de
Keywords: Engenharia biomédica; Biomedicina; Polímeros; Biosensores
Issue Date: Sep-2013
Citation: Rodrigues, Miguel / Deposition of AlNx thin films on polymers for the development of biosensors
Abstract: A medição de biossinais assume actualmente uma importância elevada, uma vez que pelos dados obtidos é possível aceder a uma vasta gama de informações do nosso corpo, que são muito úteis na ajuda aos clínicos para melhorar a saúde dos pacientes. Nos instrumentos de medição, os eléctrodos assumem uma importância extrema já que representam a interface corpo-instrumento de medição, e da sua correcta actuação depende a obtenção de um sinal com boa qualidade. Todos os eléctrodos actualmente utilizados compreendem limitações, relacionadas ou com a sua aplicação (eléctrodos húmidos) ou com problemas de ruído (eléctrodos secos). O objectivo desta tese é investigar um protótipo de eléctrodo com um princípio de funcionamento diferente dos eléctrodos actuais. O eléctrodo pretendido baseia o seu funcionamento na aplicação de pulsos de corrente, que por efeito Joule aplicam um aquecimento localizado da pele permitindo a formação de microporos na camada externa da pele, o stratum cornenum, responsável pelas propriedades de barreira da pele. A formação destes microporos possibilita uma melhor obtenção dos iões responsáveis pelos bio sinais, eliminando, portanto, os problemas associados aos eléctrodos actuais (todos causados pela barreira da pele ao fluxo destes iões). Para este fim, procedeu-se à deposição de filme substequiométrico de nitreto de alumínio resistivo sobre um substrato polimérico (usando a pulverização catódica como técnica de deposição). As características do filme foram optimizadas para se obter espessuras e resistividades desejadas, 200-300 nm e 0,001-0,1 ohm.cm, respectivamente. Estas características foram primeiramente aproximadas usando silício e vidro como substratos. Depois, filmes com estas características foram depositados em polímeros. Poliuretano foi inicialmente escolhido como substrato, no entanto apresentou uma deformação sobre calor levando à fissuração do filme. Pelo contrário, usando policarbonato como substrato, os filmes revelaram boa integridade. Para o revestimento do policarbonato, a deposição dos filmes foi estudada mais em detalhe. Condições de etching foram optimizadas, com a definição de dois tempos de tratamento apropriados para a deposição dos filmes, com estes a apresentarem muito boa adesão e resistividades eléctricas dentro da gama pretendida, servindo o objectivo do projecto.
URI: http://hdl.handle.net/10316/32479
Rights: openAccess
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